学会誌・資料 Journal

日本知財学会誌 第8巻第1号掲載

比較静学及び計量分析による現行特許制度が発明活動に及ぼす影響について
Effects of the Patent Systems on Inventors by Using Comparative Statics and Econometric Analysis


北田 透
Toru Kitada

日本知財学会誌 Vol.8 No.1 p.68-87(2011-10-20)
Journal of Intellectual Property Association of Japan Vol.8 No.1 p.68-87(2011-10-20)

<要旨>
現行特許制度は,発明によって誕生した特許製品が市場でどのような評価を得るかとは無関係に事前の一律規制として定められている.発明者は,この事前規制のもとで発明を行うことによって期待利潤の最大化を図っていると考えられることから,特定分野のみに発明が偏っているとすると,こうした事前規制が,発明活動になんらかの影響を与えている可能性が考えられる.このような関心をもとに特許製品市場について,発明者の期待利潤及び社会的余剰に関するモデルを導き,その構造を比較静学分析によって業種毎に最適な存続期間が存在することを示した.また,同モデルに対して実証分析による検証を行った.その結果,業種によっては,特許1件あたりの研究開発費と営業利益高に有意な関係を有するものがあり,存続期間の延長など権利の保護強化を行わなくても,発明者自らが研究開発費を増加させることにより期待利潤を増加させる余地のあるものが存在することを示した.
<Abstract>
Japanese patent law puts patent right under control by ex-ante regulations. Inventors are supposed to maximize their profit under uniform regulation in advance. If specific classes of patent productions have growing trend, patent regulation may be incentive for inventors to invent these patent productions. According to the surplus analysis, I examined structure of expected profit from patent productions and demonstrated optimal patent duration existing in this model. By the method of econometric analysis I verified the model of estimated. These results indicate that in some categories of R&D cost per patent are significantly related to business profit per patent, and inventors could earn more business profit by extra R&D cost without any extension of patent duration by government.

<キーワード>
特許制度,最適存続期間,余剰分析,特許料,法と経済学
<Keywords>
Patent System, Optimum Term of Patent, Surplus Analysis, Annual Fees of Patent, Law and Economics